La lámina de cobre electrolítico es un material conductor indispensable para los colectores de corriente de baterías de litio, placas de circuito impreso de alta velocidad y componentes electrónicos. La calidad de la lámina de cobre electrolítico depende en gran medida de la estabilidad de los ánodos insolubles dentro del sistema de electrodeposición de cobre. Como ánodo dimensionalmente estable (DSA) de alto rendimiento, la malla de titanio recubierta con Ir-Ta se ha convertido gradualmente en la solución de electrodo preferida para las líneas de producción modernas de lámina de cobre electrolítico que operan en sistemas electrolíticos de ácido sulfúrico-sulfato de cobre.

Fabricada con sustrato de malla de titanio puro Grado 1 y recubrimiento de óxido metálico mixto de iridio-tantalio descompuesto térmicamente, esta malla anódica ofrece una actividad electrocatalítica sobresaliente para la reacción de evolución de oxígeno. La estructura de malla abierta facilita la circulación suave del electrolito y la descarga oportuna de las burbujas de oxígeno, evitando eficazmente la acumulación de burbujas que causa defectos superficiales como picaduras y espesor desigual en la lámina de cobre. En comparación con los ánodos de plomo tradicionales, la malla de titanio recubierta con Ir-Ta evita la contaminación por iones de plomo, asegurando una alta pureza de la lámina de cobre depositada, lo cual es fundamental para la fabricación de láminas de cobre ultradelgadas de grado batería de alta gama.

Trabajando de forma continua en electrolitos fuertemente ácidos, el recubrimiento compuesto de iridio-tantalio presenta una excelente resistencia a la corrosión y una fuerte fuerza de unión con la base de titanio. Mantiene un bajo sobrepotencial de evolución de oxígeno bajo alta densidad de corriente, reduciendo el voltaje de la celda y disminuyendo el consumo total de energía para la producción de larga duración. Este ánodo de malla de titanio permite una operación estable a largo plazo, prolonga la vida útil y reduce los trabajos de mantenimiento frecuentes, así como el tiempo de inactividad de la producción para los fabricantes de láminas de cobre electrolítico.

Especificaciones del producto

Material	Titanio puro (Grado 1)
Tamaño	60 × 20 × 1 mm
Tamaño de malla	3 × 6 mm
Recubrimiento	Recubrimiento de Ir-Ta
Área de recubrimiento	Ambas caras
Técnica	Brochado

Características del Producto

Propiedad catalítica superior para la evolución de oxígeno – El recubrimiento de óxido metálico mixto de Ir-Ta ofrece una actividad catalítica excepcional para la evolución de oxígeno. Mantiene un bajo sobrepotencial de evolución de oxígeno a altas densidades de corriente, lo que reduce el voltaje de la celda y minimiza el consumo de energía en la fabricación continua de láminas de cobre electrolítico.

Resistencia superior a la corrosión ácida – Funciona de manera estable en el entorno de electrolito de ácido sulfúrico y sulfato de cobre a largo plazo, evitando la pasivación del sustrato y prolongando la vida útil del ánodo.

Sin contaminación por metales pesados – A diferencia de los ánodos de plomo tradicionales, no precipita iones de plomo, asegurando una alta pureza de la lámina de cobre depositada, lo que cumple con los estrictos requisitos para la lámina de cobre de grado batería y la lámina de cobre para PCB.

Estructura de malla abierta que optimiza la hidrodinámica – El diseño de malla acelera la circulación del electrolito y descarga rápidamente las burbujas de oxígeno. Evita la aglomeración de burbujas, reduciendo en gran medida los defectos de picaduras, manchas y espesor desigual en la lámina de cobre.

Fuerte adhesión del recubrimiento – El recubrimiento de Ir-Ta descompuesto térmicamente se une firmemente al sustrato de titanio, resistiendo la erosión y el lavado por el electrolito en flujo y el gas en escape durante largos períodos de funcionamiento.

Aplicaciones

Electroobtención de metales ácidos y recuperación de metales – Electrodeposición de cobalto, níquel, zinc y manganeso a partir de electrolitos a base de ácido sulfúrico; reciclaje de metales valiosos de aguas residuales industriales ácidas.

Electrochapado de alto rendimiento – Ánodo insoluble para cromado duro, chapado para PCB, chapado con metales preciosos como oro y rodio, reemplazando a los ánodos de plomo y grafito.

Tratamiento de aguas residuales por oxidación electroquímica avanzada – Este ánodo maneja aguas residuales industriales difíciles de tratar mediante electro-oxidación, cubriendo lixiviados de vertederos, aguas residuales orgánicas con alta DQO y aguas residuales contaminadas con metales pesados.

Electrólisis de agua PEM para la producción de hidrógeno verde – Utilizado como sustrato de electrodo anódico para electrolizadores PEM. El recubrimiento de Ir-Ta proporciona un excelente rendimiento catalítico para la OER en sistemas de membrana de intercambio de protones fuertemente ácidos.

Protección catódica por corriente impresa en alta mar (ICCP) – Ánodos auxiliares para buques, plataformas marinas y tuberías submarinas. Funciona bien en agua de mar con medios de bromuro y sulfato.

Equipos de investigación electroquímica de laboratorio – Celdas de prueba electroquímicas, electrosíntesis orgánica y dispositivos experimentales de pulido electrolítico.